编辑: huangshuowei01 2013-09-09
近期, 平台经常收到用户邮件反映平台设备使用状态不明, 特此将 AEMD 平台设备目前状态进行梳理, 以供平台各位用户参考.

对于维护中的设备给您的实验带来不便,深感抱歉!我们会尽快恢复设备状态,恢复对外开放服务! 西区 光刻区 光刻设备 Vistec EBPG-5200 电子束光刻系统 对外开放 SUSS MA6 双面对准光刻机 对外开放 Princision Imprint PI-D01 纳米压印机 对外开放 热处理设备 SVS OV-12 HMDS 烘箱 对外开放 Suss Delta HP8 热板 对外开放 HP-303DU 热板 对外开放 旋涂设备 SUSS 高性能涂胶机 I 对外开放 Laurell 650-8N 高性能涂胶机 对外开放 Ocean Optics 可见光膜厚测量仪 对外开放 薄膜 I 区 薄膜沉积设备 Denton 电子束蒸发镀膜设备 对外开放 Denton 多靶磁控溅射镀膜系统 对外开放 HARRICK 等离子清洗机(表面改性) 对外开放 微纳图形加工设备 Zeiss Auriga 场发射电子束/聚焦离子束双束系统 对外开放 测试设备 KLA-TencorP7 台阶仪(表面轮廓仪) 对外开放 薄膜 II 区 薄膜沉积设备 Oxford 等离子体增强化学气相沉积系统 对外开放 刻蚀设备 Sentech ICP 反应离子刻蚀机(用于金属薄膜) 对外开放 NMC ICP 反应离子刻蚀机(用于介质薄膜) 对外开放 SPTS 反应离子式深硅刻蚀系统(DRIE-I) 对外开放

2016 年第一期 总第二期

2016 年元月

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电话:021-34207734 西区 薄膜 II 区 刻蚀设备 NMC 反应离子式深硅刻蚀系统(DRIE-II) 对外开放 PVA-TePla 微波等离子去胶机/表面处理机 对外开放 测试设备 FSM 薄膜应力测量仪 对外开放 Ocean Optics 紫外干涉膜厚仪 对外开放 测试区 测试设备 Zeiss Ultra Plus 场发射扫描电子显微镜 对外开放 Bruker ICON 原子力显微镜 对外开放 Agilent BA1500 半导体参数测试仪与 MM 探针台 对外开放 MMR 霍尔效应仪 对外开放 氧化扩散区 氧化扩散设备 SVCS 卧式低压化学气相沉积炉管 设备装机 SVCS 卧式氧化扩散炉管 设备装机 Thermo 高温退火炉 对外开放 RTP-CT150M 快速退火炉 设备装机 测试设备 CDE Res Map 四探针电阻率/方块电阻测试仪 对外开放 湿法区 湿法台 Kzone 标准湿法台 对外开放 烘干设备 OEM 双筒旋转甩干机 对外开放 Binder 氮气烘箱 对外开放 东区 微纳加工实验室 光刻设备 SUSS MA6/BA6 双面对准接触式紫外光刻机 对外开放 薄膜沉积设备 Ulvac 超高真空溅射系统 对外开放 LH-Z600 溅射系统 设备维护 LH-Z550 溅射系统 对外开放 Comptech Z440 溅射系统 设备维护 ANEIVA SPF312 溅射系统 设备维护 离子束溅射系统 对外开放 AEMD 平台设备目前状态一览表 东区 微纳加工实验室 刻蚀设备 Alcatel 反应离子刻蚀机 设备维护 离子束刻蚀系统 对外开放 XeF2 干法硅刻蚀系统 设备维护 等离子去胶机 对外开放 氧化退火设备 卧式高温氧化炉 对外开放 RTP-300 快速热处理炉 对外开放 电镀设备 镍与铁镍微电镀/电铸系统 对外开放 全自动金电镀系统 对外开放 铜电镀槽 对外开放 后道封装设备 研磨减薄机 对外开放 精细抛光机 对外开放 SPF-7100 砂轮切片机 对外开放 测试设备 振动样品磁强计 对外开放 Bruker 表面轮廓仪(台阶仪) 对外开放 光电器件实验室 光刻设备 ABM 接触式掩膜紫外曝光机 对外开放 薄膜沉积设备 全自动多靶溅镀系统 对外开放 电子束蒸发系统 设备维护 OLED 设备 OLED 器件实验制备系统 对外开放 刻蚀设备 PE-100 等离子去胶(刻蚀)仪 对外开放 测试设备 Keithley

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