PDF《不同晶化工艺对非晶 ！＂# 纳米薄膜形核取向 生长机理的影...》

0 1 - 2) ,整个过程在室温下进行, 以得到大面积优质非 晶%&'3%43'5365+,

365 薄膜样品7 将样品切分成若干 份, 并分为两组, 一组用 89:薄膜快速热 处理设备对样品在 2"2(!>%* 氧气下快速退火处理, 温度分别为 11", 1?1, )"" 和)1"@

7 升温 速率为1"@3A, 保温时间为 2$5#7 另一组用常规热处理在石 英管式炉中进行, 退火温度分别为 12", 1!", 1)" 和)""@

7 升温速率为 ,"@3$5#, 保温时间为 2"$5#, 气 氛为 2"2(7 !"!" 薄膜相组分与表面微结构测试及电畴观测 用BA=#A'> CM 2N* ?#%$'A=,$ >@"AA'=)$% ?'A+,: #A =,,

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4 物理学报67 卷