编辑: 达达恰西瓜 | 2017-12-02 |
1 高真空多靶磁控溅射镀膜机 *
1、主溅射真空室尺寸:Ф560*350mm 进样室尺寸:Ф560*350mm 真空系统配置:主溅射室、进样室由各自独立的分子泵与机械泵抽气 极限压力: 主溅射室6.
67*10-6Pa 进样室≤6.67*10-4Pa 修复真空时间:主真空室40min可达到6.6*10-4Pa 进样室室40min可达到6.6*10-3Pa 磁控靶组件:靶材尺寸Ф60,各靶射频溅射与直流溅射兼容,靶与样品距离40-80mm可调. *
2、设计6个工位,其中1个工位安装加热炉,其余工位为水冷基片台;
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3、样品尺寸Ф30,可放6片,运动方式0-360°往复回转,基片加热最高温度600℃ *
4、水冷循环 *
5、有负偏压控制系统 *
6、电脑: 参数:CPU 酷睿I5-6400处理器 操作系统 Windows
7 家庭普通版 CPU类型 第六代 智能英特尔 酷睿I5处理器 四核500G 内存容量 4GB 内存类型 DDR4 内存频率 2133MH 插槽数量
2 *
7、柜机空调 套12真空蒸发镀膜机 *
1、主真空室尺寸:400*400*450mm;
2、极限压力:≤2*10-5Pa;
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3、盒式蒸发舟;
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4、膜厚检测仪:美国Filtech,每秒测量10次,0.03Hz测量,0.0133埃/秒;
5、样品台:样品尺寸:120*120mm基片,可放置42*34mm小基片6个,基片可连续回转,转速5-20转/分;
6、采用LED外照明方式;
7、真空室外带烘烤方式. 套131总体要求 1.1设备应采用先进成熟的设计思路及制造技术. 1.2设备具有优良的品质,即可靠性高,使用寿命长. 1.3设备操作方便、维护及维修容易,安全可靠. 1.4设备有高的测量准确性和重复性.
2 光源(光谱范围及分光方式) a) 光谱范围: 240nm-2500nm *b) 分光方式:采用前置单色仪分光 C)最小光谱测量间隔:由于0.2nm
3 起偏器、补偿器(调制器)和检偏器部分 a) 覆盖范围:覆盖仪器给定的整个光谱范围(240-2500nm) *b) 补偿技术:基于旋转补偿或自动相位延迟等多位置动态补偿技术,补偿位置不少于3个.
4 测角仪部分 a) 入射角可变范围:20°-90°,最小步长0.01° b) 变角方式:步进马达驱动,自动变角 c) 角度精度:0.01° d) 样品准直:包括样品准直系统
5 样品台部分 *a)样品台:垂直样品台,真空吸附样品,可吸附最大样品直径150 mm b) Z向移动方式及行程:手动,最大行程20mm c) 样品台调整:可对样品的俯仰进行手动调节
6 数据采集及分析软件 a) 软件应包括3个license(一个用于在线测试和分析数据,另二个用于离线分析数据). b) 数据分析软件功能全、条理清晰、操作简便、人机互动性强;
材料库及色散关系式全,可参考已知光学常数来建立色散关系式,可组合多个色散关系式到同一材料层中;
可进行椭偏数据和透射率及反射率数据合并拟合,有多数据同时拟合功能;
可对拟合参数的唯一性进行检测. c) 软件可进行单层、多层膜的膜层厚度、折射率n、消光系数k等参数的分析. d) 软件应具备材料组分、折射率梯度分布、表面粗糙、界面混合、各向异性等分析能力;
可修正不理想的真实样品,如膜厚不均匀、背反射等. *计算机配置,最新64位操作系统,500G硬盘,4G内存,23寸显示器,保证数据处理的流畅 e) 软件可选择多入射角进行测量并同时拟合数据 *7 测量准确性: 在240-1700nm光谱范围上,Ψ:450±0.030 ,?:00±0.060 ;