DOC《氧化扩散炉》

氧化扩散炉 氧化扩散炉主要满足半导体电力电子器件、大功率集成电路等行业,对所加工硅片进行扩散、氧化、退火、合金等工艺.

主要由扩散炉加热炉体、气源系统、控制系统、超净化操作系统等组成.选用工控机微控方式或者程控方式操作. 氧化扩散炉性能特点: 具有可编程的升、降温功能 采用滤波器、屏蔽板等装置,有效解决电网、磁场的干扰 windows xp全中文视窗操作系统,可储存1000条曲线,每条曲线设置30步 自动运行中可暂停/继续运行功能 智能升降温斜率控制功能 PlD参数自整定功能,可存储多组PlD参数供系统运行调用功能 系统故障的检测与报警功能、系统误差修正(单点或多点动态修正功能) 具有停电后断点继续运行功能 点火方式:外点火、内点火