PDF《银和铜膜中异常晶粒生长和织构变化的实验研究 ！》

0 LA 后充以纯度为 '

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:M的3@ 气到 ( J !$K ! LA, 以防在退火过程中膜被氧化9 经0$$1,

2 退火后随炉冷却9 退火前后膜织构的相对变化用 !― !扫描的 -./ 谱分析9 为了用 )*+ 观察, 将剥 离膜在稀 NO>

0 中腐蚀到适当厚度9 用选区电子衍 第( 卷第!期 $$0 年!月!$$$ !2 @@&

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沉积 ) 膜的二维极图 采用常规的#―>

#扫描的 . 射线衍射谱考察自 由膜和附着膜经退火后择优取向的相对变化$ 对 ) 和0: 膜的测量结果分别如图 >

和图 % 所示, 其中 (=) , (?) , (8) 分别为沉积膜、 附着膜经退火后、 自由 膜经退火后的 . 射线衍射谱$ 各峰的相对强度 ( ! ( #$) ! ('

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33) 列在表 '

中$ 和 沉积膜对应峰的强度比较知, 经%33F, >

9 退火后, 附着膜的 (>

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3) ( ) 和0: 膜) 以及 (%'

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) ( ) 膜) 面的 . 射线衍射峰的强度明显增加 (尤其是 0: 膜) $相反, 自由膜的 (>

33) 和(>

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3) ( ) 和0: 膜) 以及(%'

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) ( ) 膜) 面的 . 射线衍射峰的强度稍有降 低, 就是说 ('

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) 面的 . 射线衍射峰的强度有所 增加$ 表'

) 和0: 的沉积膜, 附着膜退火后, 自由膜退火后的 . 射线衍射峰的相对强度 膜材 ) 0: 衍射晶面 ('

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3) 沉积膜 '

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3% 图@(=) 为用 HIB 观察的 !( 基体上 0: 附着膜 经退 火后出现的两个异常大晶粒, 其直径约为>

3 +, 明显大于周围正常晶粒的尺寸$ 图@(?) 的! # 表明这两个异常大晶粒的取向均为 ('

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3) (即('

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3) 晶面平行于膜平面) $ 图5中的左上图为用 HIB 观察的 !( 基体上 0: 附着膜经退火后出现的四个异常大晶粒, 其直径均 大于 '

3 + 且明显大于周围正常晶粒的尺寸$ ! # (其余的四个图) 表明这四个异常大晶粒的取向均为 (>

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) $并注意到其中有三个晶粒在膜平面内的取向

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物理学报5>

卷 也一致, 即各晶粒的 ! ## $ 方向相互平行, 而另一 个晶粒的 ! ## $ 方向与这三个晶粒的 ! ## $ 方向 形成了 %# &

的扭转角'

这也许是由于 (%%%) 取向单晶 () 基体具有三重对称性所致'

因为对附着在单晶基 体上的薄膜来说, 膜*基界面能除与晶粒平行于膜面 的晶面指数有关外, 还与该晶面相对于基体晶面的 扭转角有关 [% , %%] '

遗憾的是, 我们在将膜从基体上剥 离下来时, 没有记录膜相对于单晶 () 基体的取向, 因此不能给出这些晶粒相对于单晶 () 基体在膜平 面内的相对取向'

图#+, 膜的 - 射线衍射谱 (.) 为沉积膜, (/) 为附着膜退火 后, (0) 为自由膜退火后 图123 膜的 - 射线衍射谱 (.) 为沉积膜, (/) 为附着膜退火 后, (0) 为自由膜退火后 图4() 基体上