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	气相色谱质谱联用仪兴庆校区化工楼424 北二楼、小北二楼大型设备清单序号资产编号资产名称存放地点 1 21005328 PLIF燃烧过程分析系统兴庆校区北二楼PLIF实验室 2 ... ---摘自《总体要求：充分考虑我校物联专网建设使用现状和发展,保障...》	ddzhikoi 2024-07-30
	沉积装置（一）集成电路关键设备、新型平板显示器件生产设备、电子元器件生产设备、表面贴装及无铅工艺的整机联装设备液压系统总成（五）甘蔗收获机（六）自走式喷杆... ---摘自《天然气压缩机、再 2船套 84143019 液化装置》	雷昨昀 2024-06-05
	设备将所需材质沉积到玻璃基板上，对薄膜的厚度和均一度要求非常严格，镀膜设备方面有 Tokki、东京电子以及应用材料等；曝光工艺主要涉及光刻和显影技术，光学领域的设... ---摘自《-行业景气度持续提升,OLED 上游设备国产化任重道远》	黑豆奇酷 2024-04-12
	沉积盆地超压系统演化及其油气成藏效应 A 郝芳 2002-2005 80 20 国家自然基金复合亚微米微球光子晶体的制备何组装 A 董鹏 2001-2003 16 FCC 油浆液相炭化的结构控制 A 张... ---摘自《石油大学》	wtshxd 2024-02-18
	(14)等离子化学气相沉积（PECVD） PECVD 被用来在硅片上沉积氮化硅材料。将硅片装在石墨舟上，放入 PECVD 管内，采用电加热，在PECVD 石墨舟装载房内将温度控制在 380... ---摘自《新增年产 200MW 太阳能电池及组件车》	笔墨随风 2023-12-25
	可组合式等离子增强化学气相沉积装置 ZL-2011-2-0355777.1 2011-9-21 10 A Vertical Split-able Tube Furnace 立式开启式管式炉 ZL-2011-2-0162248. 2011-5-19 11 A Doctor-Blade ... ---摘自《Patented Product》	鱼饵虫 2023-11-01
	化学气相沉积法 25.4% 16.2% 29.3% 33.6% 45.1% 气相/液相剥离法 19.6% 16.6% 16.2% 10.5% 11.8% 其他 8.4% 25.0% 33.3% 20.5%墨烯产业。（二）发展基础微晶石墨资源丰... ---摘自《永安市高端石墨和石墨烯产业》	匕趟臃39 2023-09-07
	24套84289090 2020 沉积装置射频电缆和接头 30个85177090 85444 85369000 2019 气体引入装置气体节流阀 6个84818040 2020 真空阀门 80个84818040 2019 射频电源 ---摘自《单机用量》	kieth 2023-07-15
	化学气相沉积法制备定向碳纳米管阵列韩道丽！赵元黎赵海波宋天福梁二军（郑州大学物理工程学院，材料物理教育部重点实验室，郑州＂#$$#%）（%$$& 年'月'（日收... ---摘自《化学气相沉积法制备定向碳纳米管阵列》	元素吧里的召唤 2023-05-22
	SBIR≤1μm 低阻重掺技术、背封和多晶硅沉积工艺，单晶炉、切片机集成电路、高端功率器件 51 8英寸轻掺硅单晶片直径200mm，电阻率11~16ohm·cm，满足0.13μm 线宽集成... ---摘自《新材料产业》	黑豆奇酷 2023-03-28
	等离子体增强原子层沉积系统可直接进行粉体、3D 材料、高宽深比沟槽等材料，从原子层面对其进行氧化物、贵金属、氮化物、硫化物等薄膜的沉积，该仪器对薄膜的成份和厚度... ---摘自《生化类》	liubingb 2023-02-02
	化硅时作为腐蚀气体，其应用在化学气相沉积室的清洗中，可使生产率提高 30%，排放物减少 90%，具有操作简便、清洁绿色等优点。特别是在当前国家大力推进微电子产品以国... ---摘自《成都科美特特种气体有限公司》	yn灬不离不弃灬 2022-12-09
	在采用气相沉积的方法处理工业用石墨碳材的基础上，缩短碳/碳复合材料（碳纤维）加工周期，降低成本，同时，提高碳纤维的纯度，高于99.9%。现有基础企业技术力量雄厚，... ---摘自《第十届中国专利高新技术产品博览会》	牛牛小龙人 2022-10-16
	公司成功研制并销售碳化硅晶体生长炉，该设备采用物理气相沉积法生长碳化硅单晶。碳化硅晶片可应用于新能源发电、新能源汽车、轨道交通、智能电网等领域。碳化硅单晶生长... ---摘自《浙江晶盛机电股份有限公司》	hyszqmzc 2022-08-23
	料的气相沉积（CVD）法合成与催化石墨化热处理。河南理工大学高温真空气氛管式炉系统项目询价文件国泰信华工程咨询有限公司第26 页1.5 真空陶瓷纤维板构成优质保温材... ---摘自《询价文件》	静看花开花落 2022-06-29
	等离子增强化学气相沉积装置（PECVD炉） Ⅰ-272 84862049 湿法刻蚀机（清洗机）；制绒机（清洗机） Ⅰ-273 84864029 自动粘片机；芯片图芯片分类机；全自动双头焊臂晶... ---摘自《广东省鼓励进口技术和产品目录（拟2017年版）》	山南水北 2022-05-06
	磁控溅射是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition, PVD）的一种，该技术在纺织领域的应用国际上仅有少数几家全球性公司掌握，之前部分产品对中国军事禁运，国内在该领... ---摘自《ZJHK-YH18021》	被控制998 2022-03-12
	镀膜工艺包括真空蒸发、溅射、离子涂敷及化学气相沉积等。在制作摄像管、光电倍增管时，各类透明导电膜、光电阴极和光导靶面材料采用真空蒸涂的方法制成。显像管荧光膜... ---摘自《1 项目背景.》	哎呦为公主坟 2022-01-17
	TF1200-PECVD型等离子增强化学气相沉积系统产品简介：此款设备配有Plasma实现等离子增强，滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一... ---摘自《TF1200-PECVD型等离子增强化学气相沉积系统》	贾雷坪皮 2021-11-24
	等离子加强型化学气相沉积设备（PECVD）膜厚均匀性<15% 持有合同订单 2018 (2) 低压化学气相沉积设备（LPCVD）膜厚均匀性<15% 持有合同订单 2018 (3) 晶硅太阳能电池... ---摘自《国家支持发展的重大技术装备和产品目录（2017年修订）》	飞翔的荷兰人 2021-09-30
	PVD（物理气相沉积）设备的研发项目；中微半导体承接了 12 寸介质刻蚀机的研发项目；上海微电子承接了 12 吋光刻机设备的研发项目；华海清科承接了 12 吋抛光设备（CMP... ---摘自《北京七星华创电子股份有限公司投资者关系活动记录表编号：》	hyszqmzc 2021-08-07
	设备种类较多，但由于核心设备单价很高，市场规模占比较高，比如沉积类设备占比近 22%，光刻机及光刻涂胶机合计占比 24%，刻蚀类设备占 30%。 4）七星电子、北方微电子... ---摘自《半导体大机遇——上游设备与材料》	hgtbkwd 2021-06-13
	化学气相沉积（CVD）工艺氯气、氨气、磷化氢刻蚀工艺氟化物、氯化氢电子终端产品装配回流焊、波峰焊工艺锡及其化合物、铅及其化合物电路板清洗工艺非甲烷总烃光碟... ---摘自《DB11》	星野哀 2021-04-20
	采用物理气相沉积法（PVT）长晶。总体生产工艺流程见图 2.5-1。图2.5-1 项目总体生产工艺流程示意图（1）SiC 晶体升华法（PVT）项目两种产品长晶均采有 PVT 工艺，主要... ---摘自《福建北电新材料科技有限公司》	雨林姑娘 2021-02-25
	层沉积及先进高强钢镀锌提供了良好的解决思路，即真空环境沉积极大地减轻了镀层的氧化，使沉积元素比例可控，所制备的锌合金镀层能够以更薄的镀层和更小的用锌量，更好... ---摘自《中冶京诚钢铁工业全方位智慧能源管控系统》	达达恰西瓜 2021-01-01
	＂，＂大型真空化学气相沉积石墨化处理多功能炉＂，＂额定炉温1600℃，炉温均匀性±10℃，泄露率≤3Pa/h，工艺气体供气压力0.1~0.2MPa＂,＂12台套＂，＂获得专利4项＂，，... ---摘自《说明》	ACcyL 2020-11-08
	物理气相沉积（PVD）是在200-500°C之间的温度来生产一种耐磨涂层的方法。因为ASSAB PM 30 SuperClean是560°C高温回火，在PVD涂层处理过程中没有尺寸改变的危险。 ... ---摘自《ASSAB PM 30 SuperClean》	ZCYTheFirst 2020-09-14
	PVD PVD，物理气相沉积，是一种在200-500℃ 温度下，在基体表面沉积耐磨损表面涂层。 CVD CVD，化学气相沉积，是在1000℃处理高温下，获得的抗磨损表面涂层的一... ---摘自《UNIMAX》	丑伊 2020-07-22
	有机金属气相沉积反应炉 8 台、PL.激光测量仪 5 台、EL.激光测量仪 3 台、ITO 透明导电层镀膜机 3 台、蚀刻机 3 台、研磨机 6 台、清洗机 3 台、激光切割机 7 台等。新建半导... ---摘自《光电子集成电路标准化厂房建设项目环境影响报告书》	捷安特680 2020-05-29
	向同性热解炭，指导设计和制造了2.5m2.5m5m的超大型化学气相沉积炉，解决了我国的急需。简历：董绍明，男，1962 年生，研究员，博士生导师。1987 年于华南理工大学获... ---摘自《会议指南》	yn灬不离不弃灬 2020-04-04
	物理气相沉积（PVD）是在200–500℃之间在工件表面涂覆一层耐磨性很高的材料的一种表面处理加工方法。 CVD 化学气相沉积（CVD）是在约1000℃左右把工件表面涂覆一... ---摘自《ASSAB 88》	glay 2020-02-10
	等离子加强型化学气相沉积设备（PECVD）膜厚均匀性<15% 持有合同订单 2018 (2) 低压化学气相沉积设备（LPCVD）膜厚均匀性<15% 持有合同订单 2018 (3) 晶硅太阳能电池... ---摘自《国家支持发展的重大技术装备和产品目录（2015年修订）》	颜大大i2 2019-12-17
	项目酸洗废气、扩散炉废气、刻蚀废气、气相沉积废气、烧结废气随着产量的提升均有一定的增加，废气污染物产生位置及收集系统均不变，经污染源强核算后， 11 技改后的废... ---摘自《建设项目环境影响报告表》	ok2015 2019-10-24
	＂26＂,＂4＂,＂4＂,＂19＂，＂气相沉积炉＂，＂座＂＂26＂,＂4＂,＂4＂,＂21＂，＂稀有金属管棒材真空退火炉＂，＂座＂＂26＂,＂4＂,＂4＂,＂99＂，＂其他稀有金属冶炼炉... ---摘自《国标94版说明》	达达恰西瓜 2019-08-31
	究了保温生长时间和氩气流速对硫化三氧化钼化学气相沉积法在蓝宝石衬底上生长 M o S 2 形貌、尺寸、结构和层数的影响. 研究结果表明：在反应物质量比和反应温度一样的条件... ---摘自《微纳米光电器件用单层 MoS》	hyszqmzc 2019-07-07
	太阳能薄膜电池沉积系统 PECVD 中国常州大学江苏 53 立式加工中心 VF-3YT/50 美国常州大学江苏 54 全固态一体式飞秒激光系统 Legend Elite USP-HE 美国常州大学江苏 55 ... ---摘自《工艺实验设备》	GXB156399820 2019-05-14
	波尔一种热丝化学气相沉积炉进出气气路装置实用新型 2016.7.6 申请 98 ZL201620 748598.7 廊坊西波尔一种抛光机用隔噪音罩装置实用新型 2016.7.15 申请 99 ZL201620 ---摘自《北京市中伦律师事务所》	hys520855 2019-03-20
	本标准规定了化学气相沉积炉的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和合同（或订货单）内容。本标准适用于化学气相沉积。 2015-10-01 YS/T 573... ---摘自《附件1:》	飞鸟 2019-01-25
	(1)装片：将外购的蓝宝石衬底放入金属有机化学气相外延沉积（MOCVD）设备的反应室内，将反应室内的温度使用电加热至 1000o C。 (2)外延：金属有机化学物（MO 源）为三... ---摘自《石板小学 SW 2040 师生 350 人》	GXB156399820 2018-12-02
	等离子体增强化学气相沉积设备「中国」指中华人民共和国，就本公布而言，不包括香港、中国澳门特别行政区及台湾「原销售合约」指福建铂阳与汉能於二零一零年五月二十... ---摘自《铂阳太阳能技术控股有限公司 *》	yyy888555 2018-10-08
	＂26＂,＂4＂,＂4＂,＂19＂，＂气相沉积炉＂，＂座＂，＂26＂,＂4＂,＂4＂,＂21＂，＂稀有金属管棒材真空退火炉＂，＂座＂，＂26＂,＂4＂,＂4＂,＂99＂，＂其他稀有金属冶... ---摘自《分类标准》	yn灬不离不弃灬 2018-08-15
	2、落实环评提出的废气处理措施，气相沉积炉产生的废气须安装有效设施进行处理，外排废气执行GB13271-2014《锅炉大气污染物排放标准》表2燃气锅炉标准；项目产生的有机... ---摘自《***同意福建康碳复合材料科技有限公司光伏热场碳/碳复合材...》	星野哀 2018-06-21
	静压机、真空感应气相沉积炉、外热式电阻预抽真空充氮炭化炉、CVI炉、变压吸附氮气成套设备等，辅助配套设施主要包括低压开关柜、水泵房设备、箱式变压机等。经核查，发... ---摘自《湖南启元律师事务所》	静看花开花落 2018-04-28
	高功率电子束熔炼炉，大型化学气相沉积炉等。 691. 高端金属结构材料。高功率（单枪功率≥500kW）电子束炉和等离子炉，大型特钢精炼真空电渣炉，高纯净大规格铝锭半连铸... ---摘自《工业转型升级投资指南》	过于眷恋 2018-03-05
	一种热丝化学气相沉积炉进出气气路装置及方法已完成真空环境加工技术 2016207076415 一种热丝化学气相沉积炉进出气气路装置超硬材料制造设备部件水导激光加工设备及... ---摘自《关于北京沃尔德金刚石工具股份有限公司》	xwl西瓜xym 2018-01-09
	大尺寸、超高真空、超高温烧结炉，熔盐电解精炼设备，高功率电子束熔炼炉，大型化学气相沉积炉等。（二）高端金属结构材料高品质特殊钢。以满足装备 ---摘自《新材料产业“十二五”发展规划》	kieth 2017-11-16
	其光电阴极沉积在透明的导电膜上，以降低光电阴极薄片电阻；＂，，，，＂门控硅增强靶视像管，在光电子撞击门控硅增强靶板极之前，有一个快速系统选通从光电阴极发出的光... ---摘自《Sheet1》	过于眷恋 2017-09-22
	一期引进50台新型MOCVD气相沉积炉等，建设蓝绿光LED外延芯片生产线。＂，，＂2014-2016＂,,,,＂27000＂，＂一期项目竣工＂，＂厦门乾照光电股份有限公司＂，，＂火炬管委... ---摘自《四个领域补短板项目汇总表》	紫甘兰 2017-07-30
	化学气相沉积炉推荐制定 2014 原材料工业司全国有色金属标准化技术委员会湖南顶立科技有限公司 YSCPZT0383-2013 富锂锰基正极材料推荐制定 2014 原材料工业司全国有... ---摘自《工业和信息化部》	芳甲窍交 2017-06-06
	喷涂柜、等离子喷涂以及化学气象沉积等设备。新建陶瓷纤维热处理试制线依托 4#厂房进行新建，1F，建筑面积约 150 m2 ，新增台车式电阻炉、箱式电阻炉等设备。新建喷漆... ---摘自《重庆市建设项目》	贾雷坪皮 2017-04-12

气相色谱质谱联用仪兴庆校区化工楼424 北二楼、小北二楼大型设备清单序号资产编号资产名称存放地点 1 21005328 PLIF燃烧过程分析系统兴庆校区北二楼PLIF实验室 2 ... ---摘自《总体要求：充分考虑我校物联专网建设使用现状和发展,保障...》

ddzhikoi 2024-07-30

沉积装置（一）集成电路关键设备、新型平板显示器件生产设备、电子元器件生产设备、表面贴装及无铅工艺的整机联装设备液压系统总成（五）甘蔗收获机（六）自走式喷杆... ---摘自《天然气压缩机、再 2船套 84143019 液化装置》

雷昨昀 2024-06-05

设备将所需材质沉积到玻璃基板上，对薄膜的厚度和均一度要求非常严格，镀膜设备方面有 Tokki、东京电子以及应用材料等；曝光工艺主要涉及光刻和显影技术，光学领域的设... ---摘自《-行业景气度持续提升,OLED 上游设备国产化任重道远》

黑豆奇酷 2024-04-12

沉积盆地超压系统演化及其油气成藏效应 A 郝芳 2002-2005 80 20 国家自然基金复合亚微米微球光子晶体的制备何组装 A 董鹏 2001-2003 16 FCC 油浆液相炭化的结构控制 A 张... ---摘自《石油大学》

wtshxd 2024-02-18

(14)等离子化学气相沉积（PECVD） PECVD 被用来在硅片上沉积氮化硅材料。将硅片装在石墨舟上，放入 PECVD 管内，采用电加热，在PECVD 石墨舟装载房内将温度控制在 380... ---摘自《新增年产 200MW 太阳能电池及组件车》

笔墨随风 2023-12-25

可组合式等离子增强化学气相沉积装置 ZL-2011-2-0355777.1 2011-9-21 10 A Vertical Split-able Tube Furnace 立式开启式管式炉 ZL-2011-2-0162248. 2011-5-19 11 A Doctor-Blade ... ---摘自《Patented Product》

鱼饵虫 2023-11-01

化学气相沉积法 25.4% 16.2% 29.3% 33.6% 45.1% 气相/液相剥离法 19.6% 16.6% 16.2% 10.5% 11.8% 其他 8.4% 25.0% 33.3% 20.5%墨烯产业。（二）发展基础微晶石墨资源丰... ---摘自《永安市高端石墨和石墨烯产业》

匕趟臃39 2023-09-07

24套84289090 2020 沉积装置射频电缆和接头 30个85177090 85444 85369000 2019 气体引入装置气体节流阀 6个84818040 2020 真空阀门 80个84818040 2019 射频电源 ---摘自《单机用量》

kieth 2023-07-15

化学气相沉积法制备定向碳纳米管阵列韩道丽！赵元黎赵海波宋天福梁二军（郑州大学物理工程学院，材料物理教育部重点实验室，郑州＂#$$#%）（%$$& 年'月'（日收... ---摘自《化学气相沉积法制备定向碳纳米管阵列》

元素吧里的召唤 2023-05-22

SBIR≤1μm 低阻重掺技术、背封和多晶硅沉积工艺，单晶炉、切片机集成电路、高端功率器件 51 8英寸轻掺硅单晶片直径200mm，电阻率11~16ohm·cm，满足0.13μm 线宽集成... ---摘自《新材料产业》

黑豆奇酷 2023-03-28

等离子体增强原子层沉积系统可直接进行粉体、3D 材料、高宽深比沟槽等材料，从原子层面对其进行氧化物、贵金属、氮化物、硫化物等薄膜的沉积，该仪器对薄膜的成份和厚度... ---摘自《生化类》

liubingb 2023-02-02

化硅时作为腐蚀气体，其应用在化学气相沉积室的清洗中，可使生产率提高 30%，排放物减少 90%，具有操作简便、清洁绿色等优点。特别是在当前国家大力推进微电子产品以国... ---摘自《成都科美特特种气体有限公司》

yn灬不离不弃灬 2022-12-09

在采用气相沉积的方法处理工业用石墨碳材的基础上，缩短碳/碳复合材料（碳纤维）加工周期，降低成本，同时，提高碳纤维的纯度，高于99.9%。现有基础企业技术力量雄厚，... ---摘自《第十届中国专利高新技术产品博览会》

牛牛小龙人 2022-10-16

公司成功研制并销售碳化硅晶体生长炉，该设备采用物理气相沉积法生长碳化硅单晶。碳化硅晶片可应用于新能源发电、新能源汽车、轨道交通、智能电网等领域。碳化硅单晶生长... ---摘自《浙江晶盛机电股份有限公司》

hyszqmzc 2022-08-23

料的气相沉积（CVD）法合成与催化石墨化热处理。河南理工大学高温真空气氛管式炉系统项目询价文件国泰信华工程咨询有限公司第26 页1.5 真空陶瓷纤维板构成优质保温材... ---摘自《询价文件》

静看花开花落 2022-06-29

等离子增强化学气相沉积装置（PECVD炉） Ⅰ-272 84862049 湿法刻蚀机（清洗机）；制绒机（清洗机） Ⅰ-273 84864029 自动粘片机；芯片图芯片分类机；全自动双头焊臂晶... ---摘自《广东省鼓励进口技术和产品目录（拟2017年版）》

山南水北 2022-05-06

磁控溅射是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition, PVD）的一种，该技术在纺织领域的应用国际上仅有少数几家全球性公司掌握，之前部分产品对中国军事禁运，国内在该领... ---摘自《ZJHK-YH18021》

被控制998 2022-03-12

镀膜工艺包括真空蒸发、溅射、离子涂敷及化学气相沉积等。在制作摄像管、光电倍增管时，各类透明导电膜、光电阴极和光导靶面材料采用真空蒸涂的方法制成。显像管荧光膜... ---摘自《1 项目背景.》

哎呦为公主坟 2022-01-17

TF1200-PECVD型等离子增强化学气相沉积系统产品简介：此款设备配有Plasma实现等离子增强，滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一... ---摘自《TF1200-PECVD型等离子增强化学气相沉积系统》

贾雷坪皮 2021-11-24

等离子加强型化学气相沉积设备（PECVD）膜厚均匀性<15% 持有合同订单 2018 (2) 低压化学气相沉积设备（LPCVD）膜厚均匀性<15% 持有合同订单 2018 (3) 晶硅太阳能电池... ---摘自《国家支持发展的重大技术装备和产品目录（2017年修订）》

飞翔的荷兰人 2021-09-30

PVD（物理气相沉积）设备的研发项目；中微半导体承接了 12 寸介质刻蚀机的研发项目；上海微电子承接了 12 吋光刻机设备的研发项目；华海清科承接了 12 吋抛光设备（CMP... ---摘自《北京七星华创电子股份有限公司投资者关系活动记录表编号：》

hyszqmzc 2021-08-07

设备种类较多，但由于核心设备单价很高，市场规模占比较高，比如沉积类设备占比近 22%，光刻机及光刻涂胶机合计占比 24%，刻蚀类设备占 30%。 4）七星电子、北方微电子... ---摘自《半导体大机遇——上游设备与材料》

hgtbkwd 2021-06-13

化学气相沉积（CVD）工艺氯气、氨气、磷化氢刻蚀工艺氟化物、氯化氢电子终端产品装配回流焊、波峰焊工艺锡及其化合物、铅及其化合物电路板清洗工艺非甲烷总烃光碟... ---摘自《DB11》

星野哀 2021-04-20

采用物理气相沉积法（PVT）长晶。总体生产工艺流程见图 2.5-1。图2.5-1 项目总体生产工艺流程示意图（1）SiC 晶体升华法（PVT）项目两种产品长晶均采有 PVT 工艺，主要... ---摘自《福建北电新材料科技有限公司》

雨林姑娘 2021-02-25

层沉积及先进高强钢镀锌提供了良好的解决思路，即真空环境沉积极大地减轻了镀层的氧化，使沉积元素比例可控，所制备的锌合金镀层能够以更薄的镀层和更小的用锌量，更好... ---摘自《中冶京诚钢铁工业全方位智慧能源管控系统》

达达恰西瓜 2021-01-01

＂，＂大型真空化学气相沉积石墨化处理多功能炉＂，＂额定炉温1600℃，炉温均匀性±10℃，泄露率≤3Pa/h，工艺气体供气压力0.1~0.2MPa＂,＂12台套＂，＂获得专利4项＂，，... ---摘自《说明》

ACcyL 2020-11-08

物理气相沉积（PVD）是在200-500°C之间的温度来生产一种耐磨涂层的方法。因为ASSAB PM 30 SuperClean是560°C高温回火，在PVD涂层处理过程中没有尺寸改变的危险。 ... ---摘自《ASSAB PM 30 SuperClean》

ZCYTheFirst 2020-09-14

PVD PVD，物理气相沉积，是一种在200-500℃ 温度下，在基体表面沉积耐磨损表面涂层。 CVD CVD，化学气相沉积，是在1000℃处理高温下，获得的抗磨损表面涂层的一... ---摘自《UNIMAX》

丑伊 2020-07-22

有机金属气相沉积反应炉 8 台、PL.激光测量仪 5 台、EL.激光测量仪 3 台、ITO 透明导电层镀膜机 3 台、蚀刻机 3 台、研磨机 6 台、清洗机 3 台、激光切割机 7 台等。新建半导... ---摘自《光电子集成电路标准化厂房建设项目环境影响报告书》

捷安特680 2020-05-29

向同性热解炭，指导设计和制造了2.5m*2.5m*5m的超大型化学气相沉积炉，解决了我国的急需。简历：董绍明，男，1962 年生，研究员，博士生导师。1987 年于华南理工大学获... ---摘自《会议指南》

yn灬不离不弃灬 2020-04-04

物理气相沉积（PVD）是在200–500℃之间在工件表面涂覆一层耐磨性很高的材料的一种表面处理加工方法。 CVD 化学气相沉积（CVD）是在约1000℃左右把工件表面涂覆一... ---摘自《ASSAB 88》

glay 2020-02-10

等离子加强型化学气相沉积设备（PECVD）膜厚均匀性<15% 持有合同订单 2018 (2) 低压化学气相沉积设备（LPCVD）膜厚均匀性<15% 持有合同订单 2018 (3) 晶硅太阳能电池... ---摘自《国家支持发展的重大技术装备和产品目录（2015年修订）》

颜大大i2 2019-12-17

项目酸洗废气、扩散炉废气、刻蚀废气、气相沉积废气、烧结废气随着产量的提升均有一定的增加，废气污染物产生位置及收集系统均不变，经污染源强核算后， 11 技改后的废... ---摘自《建设项目环境影响报告表》

ok2015 2019-10-24

＂26＂,＂4＂,＂4＂,＂19＂，＂气相沉积炉＂，＂座＂＂26＂,＂4＂,＂4＂,＂21＂，＂稀有金属管棒材真空退火炉＂，＂座＂＂26＂,＂4＂,＂4＂,＂99＂，＂其他稀有金属冶炼炉... ---摘自《国标94版说明》

达达恰西瓜 2019-08-31

究了保温生长时间和氩气流速对硫化三氧化钼化学气相沉积法在蓝宝石衬底上生长 M o S 2 形貌、尺寸、结构和层数的影响. 研究结果表明：在反应物质量比和反应温度一样的条件... ---摘自《微纳米光电器件用单层 MoS》

hyszqmzc 2019-07-07

太阳能薄膜电池沉积系统 PECVD 中国常州大学江苏 53 立式加工中心 VF-3YT/50 美国常州大学江苏 54 全固态一体式飞秒激光系统 Legend Elite USP-HE 美国常州大学江苏 55 ... ---摘自《工艺实验设备》

GXB156399820 2019-05-14

波尔一种热丝化学气相沉积炉进出气气路装置实用新型 2016.7.6 申请 98 ZL201620 748598.7 廊坊西波尔一种抛光机用隔噪音罩装置实用新型 2016.7.15 申请 99 ZL201620 ---摘自《北京市中伦律师事务所》

hys520855 2019-03-20

本标准规定了化学气相沉积炉的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和合同（或订货单）内容。本标准适用于化学气相沉积。 2015-10-01 YS/T 573... ---摘自《附件1:》

飞鸟 2019-01-25

(1)装片：将外购的蓝宝石衬底放入金属有机化学气相外延沉积（MOCVD）设备的反应室内，将反应室内的温度使用电加热至 1000o C。 (2)外延：金属有机化学物（MO 源）为三... ---摘自《石板小学 SW 2040 师生 350 人》

GXB156399820 2018-12-02

等离子体增强化学气相沉积设备「中国」指中华人民共和国，就本公布而言，不包括香港、中国澳门特别行政区及台湾「原销售合约」指福建铂阳与汉能於二零一零年五月二十... ---摘自《铂阳太阳能技术控股有限公司 *》

yyy888555 2018-10-08

＂26＂,＂4＂,＂4＂,＂19＂，＂气相沉积炉＂，＂座＂，＂26＂,＂4＂,＂4＂,＂21＂，＂稀有金属管棒材真空退火炉＂，＂座＂，＂26＂,＂4＂,＂4＂,＂99＂，＂其他稀有金属冶... ---摘自《分类标准》

yn灬不离不弃灬 2018-08-15

2、落实环评提出的废气处理措施，气相沉积炉产生的废气须安装有效设施进行处理，外排废气执行GB13271-2014《锅炉大气污染物排放标准》表2燃气锅炉标准；项目产生的有机... ---摘自《***同意福建康碳复合材料科技有限公司光伏热场碳/碳复合材...》

星野哀 2018-06-21

静压机、真空感应气相沉积炉、外热式电阻预抽真空充氮炭化炉、CVI炉、变压吸附氮气成套设备等，辅助配套设施主要包括低压开关柜、水泵房设备、箱式变压机等。经核查，发... ---摘自《湖南启元律师事务所》

静看花开花落 2018-04-28

高功率电子束熔炼炉，大型化学气相沉积炉等。 691. 高端金属结构材料。高功率（单枪功率≥500kW）电子束炉和等离子炉，大型特钢精炼真空电渣炉，高纯净大规格铝锭半连铸... ---摘自《工业转型升级投资指南》

过于眷恋 2018-03-05

一种热丝化学气相沉积炉进出气气路装置及方法已完成真空环境加工技术 2016207076415 一种热丝化学气相沉积炉进出气气路装置超硬材料制造设备部件水导激光加工设备及... ---摘自《关于北京沃尔德金刚石工具股份有限公司》

xwl西瓜xym 2018-01-09

大尺寸、超高真空、超高温烧结炉，熔盐电解精炼设备，高功率电子束熔炼炉，大型化学气相沉积炉等。（二）高端金属结构材料高品质特殊钢。以满足装备 ---摘自《新材料产业“十二五”发展规划》

kieth 2017-11-16

其光电阴极沉积在透明的导电膜上，以降低光电阴极薄片电阻；＂，，，，＂门控硅增强靶视像管，在光电子撞击门控硅增强靶板极之前，有一个快速系统选通从光电阴极发出的光... ---摘自《Sheet1》

过于眷恋 2017-09-22

一期引进50台新型MOCVD气相沉积炉等，建设蓝绿光LED外延芯片生产线。＂，，＂2014-2016＂,,,,＂27000＂，＂一期项目竣工＂，＂厦门乾照光电股份有限公司＂，，＂火炬管委... ---摘自《四个领域补短板项目汇总表》

紫甘兰 2017-07-30

化学气相沉积炉推荐制定 2014 原材料工业司全国有色金属标准化技术委员会湖南顶立科技有限公司 YSCPZT0383-2013 富锂锰基正极材料推荐制定 2014 原材料工业司全国有... ---摘自《工业和信息化部》

芳甲窍交 2017-06-06

喷涂柜、等离子喷涂以及化学气象沉积等设备。新建陶瓷纤维热处理试制线依托 4#厂房进行新建，1F，建筑面积约 150 m2 ，新增台车式电阻炉、箱式电阻炉等设备。新建喷漆... ---摘自《重庆市建设项目》

贾雷坪皮 2017-04-12