PDF《技术资料》

余氯 总氯 二氧化氯 测量系统 整套测量分析仪由以下内容组成 备选 氯/二氧化氯变送器 Liquisys S 系列CCM253/223用于测氯的探头CCS

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1 或用于测二氧化氯的探头 CCS

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1 安装组件 流通式 CCA

250 补偿电极 如CPS31或CPS12 电极连接电缆 CPK1 技术资料 TI 005C/28/zh

2 优点 现场安装或盘装式变送器 通用型 余氯和二氧化氯测量可切换 余氯测量带pH补偿 操作简单 合理的菜单式结构 六种语言显 示 使组态更方便 两行显示可同时显示测量值 温 度或pH/氧化还原值 使用可靠 过压保护 符合EN61000-4-5 手动触点控制 如流量低于下限值或采样电流故 障 则控制器自动关闭 可扩展的基本单元 2或4的触点用于 限位(也可用作温度) 余氯和pH的P(ID)控制器 冲洗过程的定时器 化学清洗 加装软件包 手动pH补偿 用于余氯测量 电流输出组态 报警或越限时启动自清洗功能 探头活性测试 过程监测 可选的pH或氧化还原测量 自动pH补偿 用于余氯测量 HART PROFIBUS-PA或PROFIBUS-DP 第二路电流输出用于温度 pH值或 氧化还原值 流量低于限值或主流量故障时的电 流输入用于关闭控制器或用于前馈 控制 Liquisys S CCM 223/253 余氯 / 二氧化氯变送器 LiquisysSCCM253 LiquisysSCCM223 Liquisys S CCM 223/253变送器采用 模块化设计 应用广泛 基本型变送 器提供简单的测量和报警功能 加装 软件和硬件模块后可以应用于特殊的 场合 如果需要 可使用扩展模块 饮用水 水处理 冷却水 气体吹扫 逆向渗透 食品工业 游泳池水 应用领域

3 可选 同时测量pH值和氧化还原值 也允许在过程对pH值进行控制 Liquisys S CCM 223/253为饮用水和 工业水处理过程提供正确的测量方法基本型(EK)的功能 在标准或微量测量范围内 测量余氯 或二氧化氯浓度 传感器可从菜单中 选择温度可以显示也可以不显示EP型允许同量显示pH值和氧化还 原测量值 用于余氯测量的CCS140/141和用于 二氧化氯测量的CCS240/241无零电 流 因此只需单点标定 标定可以通 过键入DPD参考测量值来进行 不同的应用场合要求不同的报警模式因此Liquisys S CCM 223/253对 每一个单独的故障允许进行单独的报 警触点和故障电流组态 通过这种方 式抑制不必要的报警信号 最多四付触点可用于限位触点(也可用 于温度)实现P(ID)控制和清洗功能触点的手动操作(不通过菜单设定)快 速进行限值 控制或清洗功能 有助于快速纠正偏移 可显示仪表和模块的系列号及订货代 码ES型可提供附加功能 用电流测量传感器测量余氯与pH有关而不是用于标定的DPD测量手动pH补偿使仪表可用于测量缓慢变化 的pH变量 电流输出可自由设置 即便在显示大 的测量范围时 也能在一定范围内达 到高的分辨率 可采用双线性的或类 似对数的曲线 当传感器信号发生超时切换故障时 活性检测发出报警信号 说明可能发 生传感器阻滞 钝此 与过程脱离等 过程检测系统使用可调的时间间隔来 监测在一个非常长的时间内 被测变 量是否超过或低于正常值 可以及时 监测消毒剂的液位是否有过低或过高 的危险 EP型的附加功能 自动pH补偿指该仪表可用于测量一个 频繁变化的pH变量 Cl2 DPD pH manu

0 20 t

0 20 Cl /ClO

22 pH/Redox + Cl2 DPD pH auto off on Timer t off off on on Chemoclean t E0