编辑: GXB156399820 | 2013-09-09 |
"%%# 年!% 月") 日收到修改稿) 采用直流磁控反应溅射在 *+ (!%%) 衬底上溅射得到 (%%!) 取向的 ," -.
薄膜/
0 射线衍射 (123) 、 扫描电镜 (*45) 和傅里叶变换红外光谱 (6782) 的结果表明, 氧分压影响薄膜的成分和生长取向, 在氧分压 %9):;
时溅射得到 (%%!) 取向的纳米 ," -. 薄膜, 即沿 ! 轴垂直衬底方向取向生长的薄膜/ ," -. 薄膜经过真空退火得到 (%%!) 取向的 ,-" 薄膜, 晶体颗粒长大/对薄膜的分子结构和退火过程的晶格转换进行了分析, 证实了氧分压对薄膜晶体结构的影响/ 关键词:微观结构,氧化钒薄膜,择优取向,直流磁控溅射 ! 国家自然科学基金 (批准号: 资助的课题/ $ 4>?;
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F/ FG !9 引言钒的氧化物体系是一个复杂的体系, 其氧化物 根据钒的价态由低到高依次为 ," -. , 并存在 ," -"" H ! (##"#&) 和," -"" I ! (## "# - 体系众多的氧化物中, ," -. 和,-" 由于其优良的光电性能而被广泛研究/ ," -. 薄膜主要应用于电变色器件、 光学开关和微电池 等["] /,-" 被认为是很好的相变材料, 在 DGC5 LI, N)AE "NG%C ="