PDF《C09G 1/02》

[19]中华人民共和国国家知识产权局 [12]发明专利申请公开说明书 [11]公开号 CN 1417278A [43]公开日 2003年5月14日[21]申请号 02155461.

7 [21]申请号02155461.7 [22]申请日2002.12.13 [71]申请人 清华大学 地址 100084北京市100084-82信箱 [72]发明人 雒建斌 雷红 潘国顺 路新春 [51]Int.CI7 C09G 1/02 B24B 9/02 权利要求书

1 页 说明书

5 页 附图

3 页[54]发明名称 一种用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料 [57]摘要 本发明涉及一种用于存储器硬盘的磁盘基片抛 光浆料,属于计算机存储器硬盘制造技术领域.本 发明的抛光浆料含有磨料、氧化剂和水,其特征在 于该抛光浆料还含有水溶性润滑剂和抛光平衡剂. 所述水溶性润滑剂为脂肪酸聚氧乙烯醚磷酸酯、脂 肪胺聚氧乙烯醚磷酸酯、脂肪酸多元醇酯的一种或 两种以上的混合物,其含量为0.2-20wt%;

所述 抛光平衡剂为水溶性醇,其平衡剂的含量为0.05- 20wt%.采用本发明提供的抛光浆料对存储器硬盘 的磁盘基片进行抛光,可以降低存储器硬盘的基片 表面的粗糙度和波纹度,使得平均波纹度和平均粗 糙度均小于0.7埃,并可有效地消除凹坑、突起、 划痕、抛光条痕等表面缺陷,并能以经济的高速度 进行抛光. 02155461.7 权利要求书第1/1页

21、一种用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料,含有磨料、氧化剂和水,其特征在于该抛 光浆料还含有水溶性润滑剂和抛光平衡剂.

2、按照权利要求1所述的用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料,其特征在于:所述磨料 选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆中的任何一种或两种以上的混合物,其磨料的含量 为1-20wt%,优选为3-8wt%.

3、按照权利要求2所述的用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料,其特征在于:所述磨料 优选为胶体二氧化硅,其平均粒度为10-200纳米,优选为20-80纳米.

4、按照权利要求1所述的用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料,其特征在于:所述氧化 剂为选自硝酸、过硝酸、过氧化氢、碘酸、高碘酸、硝酸铁、硝酸铝中的至少一种,其氧化 剂的含量为0.1-12wt%,优选为0.3-5wt%.

5、按照权利要求4所述的用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料,其特征在于:所述氧化 剂优选为硝酸铁,其水溶液的杂质颗粒度小于200纳米.

6、按照权利要求1所述的用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料,其特征在于:所述水为 去离子水或蒸馏水.

7、按照权利要求1所述的用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料,其特征在于:所述水溶 性润滑剂为脂肪酸聚氧乙烯醚磷酸酯、脂肪胺聚氧乙烯醚磷酸酯、脂肪酸多元醇酯的一种或 两种以上的混合物,其润滑剂的含量为0.2-20wt%,优选为1-5wt%.

8、按照权利要求1所述的用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料,其特征在于:所述抛光 平衡剂为水溶性醇,优选为异丙醇、乙二醇、丙二醇、丁二醇、丙三醇的一种或两种以上的 混合物,其抛光平衡剂的含量为0.05-20wt%,优选为0.5-6wt%.

9、按照权利要求1所述的用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料,其特征在于:所述抛光 浆料的PH值为1-4. 02155461.7 说明书第1/5页3一种用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料 技术领域 本发明涉及一种抛光浆料,特别是涉及一种用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料,属于 计算机存储器硬盘制造技术领域. 背景技术 近年来,随着存储器硬盘容量及存储密度的快速上升,要求磁头去读更小、更弱的信号, 因而磁头与磁盘磁介质之间的距离需要进一步减小以提高输出信号的强度.目前,产品化的 计算机磁头的飞行高度已降低到10nm 左右,,