编辑: 匕趟臃39 | 2019-07-01 |
1 四个样品是一个紧接 一个连续生长的1 B
5 C 测量是在M
5 C# $ $N O 电子显微镜上进 行的1 样品先进行机械减薄到( $ 7, 然后用氩离子 轰击直到电子束可以穿透为止1 为了得到 B
5 C 截 面像, 样品面对面粘在一起后再进行机械减薄和离 子减薄1 E F谱测量采用氦氖离子激光器作为激发光 第A 3卷第! !期# $ $ $年! !月!$$$6&
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$6$(物理学报.NB.E H P Q ) N .Q ) R ) N . G S
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1 Q S @
1 源, 激发光波长为! # $ %&
'
, 激光功率约为('
)* 样品放在液氦闭循环制冷装置中, 温度在( +到 + + ,之间可调* 输出信号用液氮冷却的锗探测器测量* 结果与讨论 ! # $ % &
与'
( &
图( ( - ) 为!. + $ (样品的截面/
0 1 像, 示意图 如图( (
2 ) 所示* 由此可估算出量子点的平均大小约 为# +&
'
* 从图(可以看出, 对应于3 &
4 5量子点的 起伏并不是很明显, 而且量子点附近的应变也没有 过多地延伸到
6 -
4 5缓冲层及盖层中* 这与普通的 用6 -
4 5做盖层的3 &
4 5量子点的截面像有区别* 普 通的
6 -
4 5盖层下的3 &
4 5量子点在 /
0 1 下会观察 到有明显的起伏, 而且应变场分布往往会沿生长方 向延伸到
6 -
4 5的缓冲层以及盖层中 [
7 ] * 可见3 &
8 6 -
4 5盖层的存在影响了3 &
4 5岛周围应变场的分 布,
3 &
4 5岛在生长方向承受的应力减小* 可以想象, 随3 &
组分的增加, 这种影响会更明显* 图( 含有 &
'
3 &
+ * (
6 - + *
9 4 5覆盖层的自组织3 &
4 5 量子点结构的/
0 1 像(-)和/
0 1 像的示意图 (
2 ) 但随 ! 值的增大, 发现淀积在3&
45上的3&
!6-(:!
4 5容易继续成岛* 图#为!.+ $ #和+ $ 样品的(! '
;
(! '
4 <
1 图* 从图#可以看出, !. + $ #样品的表面几乎是平的, 平均起伏小于( &
'
;
而!. + $ 样品的表面却是明显的岛, 平均大小约为 ! +&
'
, 高度超过(+&
'
* 这表明!.+ $ 时,
3 &
!
6 - ( :!
4 5在原来的3 &
4 5量子点上继续成岛, 岛 的尺寸变大* 淀积在3 &
4 5上的3 &
6 -
4 5必然对应变场 的分布产生影响, 本文的= >
谱测量证明了这一点* 图# 覆盖层为 &
'
3 &
+ * #
6 - + * %
4 5 ( - ) 和 &
'
3 &
+ *
6 - + *
7 4
5 (
2 ) 的自组织3 &
4 5量子点的
4 <
1 图! )*+谱测量 图 为( +, 时所有?块样品的= >
谱* 在图 没有观察到激发态发光* 很明显, 随! 值的增大, 量 子点的发光峰明显红移, 对!. + $ 的样品, 其发光 峰已经红移到( $ ( ! '
附近* 从图 得出的另一个重 要信息是各光谱的积分荧光强度和半高宽随! 值 的变化, 结果如图 内插图所示* 可以看出, 随! 值 的增大, 光谱的积分强度总的趋势是增加, 而半高宽 却减小* 如对!. + $ +样品, ( +,下其发光峰半高宽 为! #'
@ A, 但!. + $ #样品的发光峰半高宽却已经 减小到了 !'
@ A* 另外, 对于!. + $ 样品, 其发光 峰半高宽较!. + $ #样品略有增大 (约为? +'