编辑: xwl西瓜xym 2019-07-02

10 0

0 ℃保温4h ) .随炉冷却至室温后, 取 出渗剂放入研钵中, 添加2 4gNH4 C l粉, 再次研 磨使粉末混合均匀.随后将 粉末 放在扩散 炉托 盘上, 并将前面经渗 C o预处理过的试样悬挂于粉 末上方.关闭炉腔, 采用机械泵抽真空, 待炉腔真 空度在1

0 0P a以下时, 关闭机械泵.将炉腔加热 至10

0 0℃并保温6h后, 关闭加热系统, 随炉冷却 至室温, 取出样品, 采用酒精、 去离子水清洗. 采用日本理学 D / m a x R A 转靶式 X 光衍射 仪( X R D) 分析了涂层的相结构.利用附带能谱仪 ( E D S ) 的场发射扫描电镜I n s p e c tF观察了涂层的 截面组织形貌, 并对涂层进行元素成分分析.采用 美国 G a m r y电化学工作站测试了涂层的动态极化 曲线, 使用三电极方法测试.其中, 铂电极为对电 极, 饱和甘汞电极( S C E) 为参比电极, 待测样品为 工作电极.涂层非工作表面采用硅胶密封, 工作面 暴露 面积约为1c m

2 .电化学测试所用溶液为3.5%的 N a C l溶液.动态极化曲线测试前首先测 试开路电位, 待开路电位达到稳定后进行动态极化 曲线测试.测试过程中, 扫描速度为0 . 5m V / s , 扫 描范围从开路电位-2

0 0m V 开始.E I S扫描频率 范围为1

06 ~

1 02 H z , 测试信号为2 0m V.

2 结果与讨论 2.

1 渗锿坎愕淖橹蚊 图1和图2分别为 K

4 4 4镍基高温合金在

10 0

0 ℃和8

5 0℃温度下渗 C o后的 X R D 衍射图 谱和截面组织形貌.从图中可以看出,

10 0

0 ℃ 渗Co涂层厚度约为1 0μ m, 为双层结 构.外层 和内层主要相均为γ ( C o , N i ) 相.内层为过渡 层, 有少量的点状和细条状 的灰 色相 析出, 已采 用TEM 和XRD证实这些析出相主要为 T i的氮 化物/碳化物 T i N 和Ti(N0. 3C 0. 7) [

1 6

1 7 ] .8

5 0 ℃ 渗Co涂层厚度约为5μ m, 外层和内层同样为γ ( C o , N i ) 相, 但内层没有明显的氮化物/碳化物生 成.两种渗 C o涂层外层与过渡层交界处均有半 连续的氧化铝带生成, 这主要由于渗 C o过程中, C o元素向基体内 ........

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