编辑: ok2015 2019-07-04

3 , 氧化环境为 4! 与水 蒸气的混合气体, 该环境通过高纯4! (55"555/) 带入 $%%% )6 的水洗气瓶中水汽获得, 洗气瓶温度用恒温水浴控制, 7! $8

9 与含 !'/ 7! $:

9 的水分别置于各自洗气瓶中, 采用了 + 种条件进行 氧化实验: ($) 单独通水;

(!) 单独通含 !'/7! $:

9 的水;

(+) 先通水经一定氧化时间后, 再切换为含 7! $:

9 的水, 进行 7! $8 9;

7! $:

9 接续氧化, !"$" 同位素在氧化膜中分布与产物形貌分析 经过高温氧化后的硅 ($%%) 样品, 采用 - !--.

0 )

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