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!" 和#$ 底层对 [%&'()] ! 多层膜有序化的影响! 冯春!) 李宝河!) , ") 滕蛟!) 杨涛!) 于广华!) # !) (北京科技大学材料物理系,北京 !$$$%&) ") (北京工商大学数理部,北京 !$$$&') ("$$( 年!月!) 日收到;

"$$( 年&月!日收到修改稿) 利用磁控溅射的方法, 在热玻璃基片上制备了以 *+, ,-, .

/, .0,

12 和,3 为底层的 [45612] ! 多层膜, 后经不同温 度真空热处理, 得到 7!$ 有序结构的

4512 薄膜 (7!$ 84512) 9实验结果表明, 以*+ 和,- 为底层, 通过采用基片加温, 同 时利用 [45612] ! 多层膜结构, 可以促进

4512 薄膜的有序化过程, 使451287!$ 有序化温度从 ($$:降低到 &($:

9 在较 高的温度下退火, 以*+ 为底层对薄膜的磁性能影响较小, 而以 ,- 为底层在高于 ($$:退火后, 矫顽力明显下降9 在)$$:退火 "$;

-< 后, 以*+ 和,- 为底层的样品平行膜面的矫顽力分别达到 (='>*6;

和?)(>*6;

, 剩磁比分别达到 $@%! 和$@=), 为将来 451287!$ 有序相合金薄膜用于未来超高密度磁记录介质打下基础9 关键词:7!$

84512 薄膜,有序化温度,底层,多层膜结构 A,'('$4 ! 教育部博士点基金 (批准号: 和教育部科学技术研究重要项目 (批准号: !$)$"&) 资助的课题

9 # 通讯联系人9 B8;

3-C:+DE/F;

32509/G2H9 5I/9 J< !@ 引言近!$ 年来磁硬盘技术得到了飞速发展, 目前实 验室的硬盘磁记录面密度已达到 "&@"&KH6J;

" [!―&] , 超高密度磁记录的下一个目标是突破 !(?KH6J;

" 9要 实现这么高的面密度, 记录介质中的磁性微粒尺寸 必须降低到 (? 为底层的样品矫顽力不高, 图0:-$ [%&$'(] )! 在不同退火温度 *+,-. 退火后的磁滞回线 且随退火温度的变化不大/ 比较来看, 在0++1热处 理时, 以:- 为底层的样品可获得最大的矫顽力, 而在22+1热处理时, 以"# 为底层可获得最大的矫顽 力, 其他不同底层的样品磁性能较低或在较低的温 度下就出现了矫顽力的下降, 具体原因以及底层对 表面形貌和微结构的影响我们还正在进行深入的 研究/ 图2不同底层样品的矫顽力 !> 随热处理温度的变化关系

06 结论实验结果表明以 "# 和:- 为底层, 利用 [%&$'(] # 多层膜结构, 均可以促进 %&'( 薄膜有序化过程, 使%&'( 薄膜的有序化温度至少降低了 )2+1 / 但"# 和:- 为底层对多层膜热处理后的磁性和结构的影响 不同/ 在低于 0++1退火后, 以"# 为底层的样品磁 滞回线出现峰腰, 而:- 为底层没有出现这种现象;

在高于 2++1退火后, 以:- 为底层的样品矫顽力下 + +

3 0 物理学报20 卷降, 而以 !" 为底层的样品随着退火温度的升高, 矫 顽力一直增大, #$% 有序度也增加& 在'%%(退火 )%*+, 后, 以!" 为底层的样品平 行膜面的矫顽力已达到 -./0!1*, 剩磁比为 %23$, 而以4+ 为底层的样品矫顽力已达到 5'-0!1*, 剩磁比 为%2.', 均实现了较低温度的有序化, 为将来 6789: #$% 有序相合金薄膜用于未来超高密度磁记录介质 打下基础&

7 A,B=C