PDF《真空溅镀系统 B (SPUTTER)使用办法》

真空溅镀系统 B (SPUTTER)使用办法 制表日期:2009/06/01

一、仪器规格:

1、人机界面.

2、3 支6冀Χ埔跫.

3、可放

6 片WAFER(6 or4 冀钥,可自?分配,共6片).

4、2 台DC2500W 与1台RF1000W.

5、MFC for Ar、 N2 与O2.

6、基板载台转速每分钟 0~30 转,可调控.

7、可升温至 300℃.

二、开放使用时段: 周一~周五 00:00~09:00 (升温 or 特殊制程请用此时段) 09:00~14:00 14:00~19:00 19:00~24:00 周?、日00:00~12:00 (升温 or 特殊制程请用此时段) 12:00~24:00 (升温 or 特殊制程请用此时段) *特殊制程:需高真空制程者(EX:TiN) or 其它.

三、训?申请:(98/6/15 开始受?)

1、硕博士班研究生且从事相关?文研究者且具 Sputter 使用资格(任一台皆可,只要能出具证明), 得提出训?申请,目前每位?师限定一名学生申请,3 个月后每位?师可再加派一名,未?视? 况调整.

2、填写乙表后,送交本中心承办人员申请.

3、审核通过后由已取得使用资格之研究生给予训?,经具考核资格者考核通过方可自?使用.

4、未通过考核前,如需?习必须?取学习证,并由具使用资格者陪同.

四、委托代工(操作)方式:(98/9/1 开始受?)

1、详细填写本中心 SPUTTER 委托操作申请表,清楚?明包括 : 片?、试片结构、镀薄膜种?、所 通气体??、DC 及RF 之功?、镀膜时间、特别注意事项.

2、表格?同试片亲自送或邮寄至本中心始开始排操作时间.邮寄试片请自?负责安全与完整性.

五、使用资格:

1、训?考核者可操作仪器,考核办法另公布於本中心网页,请考生确实训?至熟悉后再?考试, 未通过者需再缴考核费用重考,直至考核完成即具正式使用资格.

2、取得使用资格者需接受协助仪器之相关工作.

3、?续?个月无使用记?者,撤销使用资格.如欲恢?,须重新申请训?.

4、为保护学生实验安全、设备正常运转及预防人头问题,夜间使用资格与旧 SPUTTER 同,需白天 ?积

4 次实作记?即可填表申请

24 小时使用资格.

5、违反使用规则者,撤销使用资格,?得再申请训?. ?、使用规则:

1、尚未通过考核且未提出使用申请表者,禁止自?操作.

2、请依照操作手册使用设备.

3、每个 RUN 开始的

30 分钟未到达者,现场人员有优先使用权.

4、?有事无法依预约时段?实验者,请一定要在前一日取消,把时段让给有需要的人,否则费用 照扣.

5、使用者?得自??换靶材,需由技术员 or 技术员授权之人员才能?换靶材.

七、预约方式

1、每周三上午 8:30 至?米中心 1F 大厅排 RUN.

2、预约优先权为刚考过同学最高,越久没用的同学次之,依此?推……….

3、每周预约表将每周三公布於家族网页中,使用者可自?上网预约空的 RUN、修改、取消…….

八、收费方式: (贵仪核可项目,有贵仪帐号者请上网预约,无贵仪帐号者请现?付费) 学校单位 研究单位 营?事业单位 代工费 (现?) (自?操作?用缴此费用)

850 元850 元850 元 开机费(元)

6000 元7000 元9000 元 开机费(元)(夜间)

8000 元9000 元10000 元 开机费(元)(周末)

10000 元12000 元15000 元 材?名称 收费 Ti

1200 元/KA Ni

2500 元/KA Ta

5000 元/KA Hf

8500 元/KA **可摆

4 蓟

6 季

6 片**

1 号GUN 为Ni,

2 号GUN 为Ti,

3 号GUN 为Ta 与Hf.