编辑: 紫甘兰 | 2019-10-15 |
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1 1
1 1. . . .应用领域 应用领域 应用领域 应用领域: : : : 主要适合于
3 英寸(兼容
4 英寸工艺)硅片的硼扩散、磷扩散、一次氧 化、干氧氧化、基区扩散氧化、合金、退火等工艺.
2 2
2 2. . . .加热系统 加热系统 加热系统 加热系统: : : : 有效管内径:170mm~350mm;
工作温度:200℃~1300℃ 炉体恒温区:500mm~1000mm±0.5℃ 控温精度:>800℃/±0.5℃