PDF《AEMD 校级平台月报》

4200 半导体参数分析仪(含探针台) 对外开放 KLA-Tencor D-120 表面轮廓仪(台阶仪) 对外开放 液晶设备 精密温控 UV 曝光系统(UFS-11C) 对外开放 田宇科技 TY-RB500 液晶配向膜摩擦机 对外开放 AEMD 平台设备目前状态一览表 Zeiss Ultra Plus 场发射扫描电子显微镜 主要技术指标/Specifications:

1、 分辨率:≤0.8nm@15V,≤1.6nm@1kV

2、 加速电压:0.02kV-30kV,优异的低电 压性能适合观察导电性较差的样品;

3、 探测器: 极靴内高效二次电子探测器及 能量选择背散射电子探测器,样品室内 高效二次电子探测器及角度选择背散射 电子探测器,能同时获得二次电子图像 和背散射电子像.

4、 样品台:最大样品尺寸 Φ200mm,5 轴 电动优中心样品台,可倾斜范围为-3~ 70°,连续旋转 360°.

5、 配置 EDS 能谱仪可做微区成分分析;

6、 EBIC (电子束感生电流)可做半导体电 子电路形貌及缺陷分析;

7、 离子溅射仪可镀金膜. Zeiss Auriga 场发射电子束/聚焦离子束双束系统 主要技术指标/Specifications: 电子束:Electron beam:

1、分辨率:≤1.0nm@15V,≤1.9nm@1KV

2、加速电压:0.1KV-30KV

3、电子枪:热场发射电子枪 离子束:Ion Beam:

1、离子源种类:液态 Ga 离子源

2、分辨率:≤2.5nm@30kV

3、加速电压:1kV-30kV 辅助功能/Assistant functions:

1、 Pt,W,C,SiO2,XeF2 气体注入系统:可在离子束、电子束诱导下进行可控沉积及增强 或选择性刻蚀;

2、 牛津纳米机械手(含电学性能测试):透射电镜取样系统,可提取 FIB 切割后的 微小样品,配合 FIB 对纳米材料进行搬运、操纵;

3、 三维成像系统:可实现对样品的自动切割,自动拍照以及所有照片叠加后的三维 重构;

4、 微纳米加工系统:具备离子束沉积并加工复杂图形的软硬件系统;

5、 具有电子束流枪,可对绝缘体材料无干扰加工或刻蚀;

6、 最大样品尺寸不大于 150mm.极限真空:优于 5*10-7Torr. 主要用途/Applications: 双束系统中场发射扫描电镜主要用于观察、分析和记录材料的微观形貌,聚焦离子 束用来对样品进行在微纳米尺度下的图形沉积、切割、刻蚀、透射样品制备及原子探针 针尖加工等工作. 设备介绍: (More…) (为让广大用户师生能更好的了解平台现有设备及主要用途,在每期月报中会向各位师生介绍微纳米加工测试设备.AEMD 平台也欢迎有兴趣的师生前来参观. 联系

电话:021-34207734 转8001 沈老师) 主要用途/Applications: 主要用于纳米材料的超高分辨的微观形貌观察和结合 EDS 能谱仪对材料进 行微区成分分析等. 最新动态:More… ? 为保证 AEMD 平台的加工测试项目及收费适应平台的发展,经过仔细调研和 认真讨论之后,先进电子材料与器件(AEMD)校级平台加工测试服务收费 标准 v1.1 新版正式发布,具体收费标准已发送至平台账户负责人. ? 根据平台最新收费标准发布,为提高平台设备使用率,让各位师生能更好的 了解并使用平台设备, 自最新收费标准实施起即

2016 年2月1日, EBL 仍实 行8折优惠,FIB 从6折优惠调整为

8 折,欢迎广大用户师生前来使用! ? 微电子大楼电子显示屏于

2016 年1月6日安装到位,电子屏的投入使用将更 好地为大家提供展示的平台. ? 为了能向广大用户提供更优质、更满意的测试加工服务,从2016 年元月起 AEMD 平台推出了常务副主任接待日(每两周周五 13:00-14:30,请先电话联 系沈老师预约 021-34207734 转8001) ,广大师生可以直接与平台常务副主任 沟通.若您对我们的服务有任何的意见或建设,也可通过 AEMD 平台微信号 ――AEMD 平台,进行反映. 外界关注:More… ?