PDF《精密光学辅料手册》

65 以下 TN0013-2 中强 65~80 TN0013-3 中等(适用于总型)

80 以下 TN0016-1 较强

100 以上 TN00271B 弱 平面成盘精磨 TN00282 强80~100 TN00323 较强

100 以上 金属基 TN03101 较强

100 以上 TS01420 弱 树脂基 TS01723 中等 适用于超精磨 注:各种牌号光学玻璃的相对研磨硬度见附录四. 标记 精磨片标记应写明产品的结合剂类型、几何尺寸及粒度等相关信息.其书写格式 及顺序如下: 结合剂-外形尺寸(外径*厚度 工作面半径) 微粉粒度 示例:TN00102-φ8*3 SR-15.596 W14 云南光电辅料 www.ynoeam.com 中国・昆明・海口

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二、金刚石面磨(总型) 用途 采用金刚石微粉与金属或树脂结合剂制成的一端为球面的圆柱状复合成型磨具, 主要用于高精度小透镜的精磨和超精磨加工,具有磨削效率高、寿命长、面型稳定及操作方 便等特点. 金刚石面磨应配合冷却液使用,以保持加工自锐性. 规格 外径 Ф(mm) 4~50 高度 T(mm)

7 工作面半径 SR 用户指定 金刚石粉粒度 W1.5~W50 说明:高度 T,对于凸形总型指的是外圆柱高;

对于凹形总型指的是底面中心至球面中 央顶点的距离..结合剂类型类型及适用范围与精磨片同. 标记 总型标记应写明产品的结合剂类型、几何尺寸、开槽数量、槽宽及粒度等相关信 息.建议用户按附录五所示订购单填写. 精磨片的选用:在选用金刚石精磨片时,应注意以下几点: 1. 粒度的选择 由于精磨工序处于粗磨与抛光两道工序之间, 起到了承上启下的关键作用,因此正确选 用合适金刚石粒度的精磨片显得尤其重要. 选用的原则是所用精磨片必须既能有效除去上道 工序留下的粗磨加工痕迹, 又能确保本道工序产生的细划痕在后续抛光中被彻底清除.对于 普通望远镜所用的光学元件,一般只须采用金属基的 W14 或W10 丸片进行一道精磨 (光学元 件表面粗糙度 Ra 值达到为 0.16~0.32μm) ,即可转入抛光;

而对于显微镜、照相机等仪器 对光学元件有较高要求的, 应采用两道精磨, 可先用 W20 或W14 的金属基丸片进行一道精磨, 然后再用 W10 或W7 的树脂基丸片进行第二道精磨(光学元件表面粗糙度 Ra 值达到 0.10μm 以下) . 精磨片粒度选用过细,在精磨后的光学元件表面即可见到粗磨时留下的菊花状痕迹,或 在抛光后的光学元件表面留有亮点等. 2. 精磨片尺寸的选择 主要从被加工光学元件的曲率半径、 粘贴丸片的铸铁模表面积两方面考虑,确定精磨片 的尺寸和使用范围.具体如下表所示: 光学元件曲率半径(mm) 10~20 20~30 30~50 精磨盘表面积(cm

2 ) 6~25 25~50 50~150 精磨片尺寸: 直径*高度(mm) φ4*3 φ6*3 或φ8*3 φ8*

3、φ10*3(4) 、 φ12*3(4) 注:光学元件曲率半径在 10mm 以下的,建议使用金刚石磨头(总型) . 3. 复盖比的确定 精磨片的复盖比主要取决于精磨盘的曲率半径.可由以下算式计算得出. 复盖比 P=ZAP/AW=Z(D/2)

2 π/2πRh=ZD

2 /8Rh 式中 Z―精磨片总数目 云南光电辅料 www.ynoeam.com 中国・昆明・海口

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6 AP―每片精磨片的面积 AW―贴置模球缺表面积 D―精磨片直径 h―贴置模球缺矢高 实际使用中,复盖比越大,冷却液流通越困难,可能出现磨屑不易排出,磨削效率低等 现象.建议在加工平面或大球面元件时,使用复盖比较小(约20%~30%)的磨盘,在排列 丸片时, 应使磨盘边缘丸片密度较中央部位稍高, 这样有助于提高压强, 增加切削力;