PDF《上海新阳半导体材料股份有限公司投资者关系活动记录表》

2019 年底电镀液和 清洗液产品的销售有可能超过传统封装化学品的销售 ,将 会成为公司材料产品业绩增长的主要贡献点. 4. 公司清洗液产品在台积电的认证进展情况 公司的清洗液产品在台积电是以工艺改进项目的形式进行 的,周期会比较长. 5. 公司的清洗液产品与哪些设备适配? 公司的清洗液产品经过工艺的微调整在主要的清洗设备上 都能够实现很好的适配. 6.

193 光刻胶项目研发进度如何?

193 光刻胶项目目前处于实验室研发阶段.2016 年底公司内 部立项开发半导体用高端光刻胶,

2017 年公司开始基础研发 工作,2018 年与邓海博士合作设立上海芯刻微公司进行 193ArF 光刻胶项目的开发. 因合作未达到预期, 公司与邓海 博士解除合作,但公司还在按计划推进该项目.同时也在着 手开发 i 线、KrF 光刻胶及其配套材料. 7. 对于光刻胶项目开发过程中的关键问题光刻机、人才和原材 料问题,公司现在如何应对解决? 受制于光刻机、人才和关键原材料这三个主要因素,国内半 导体光刻胶研发进度缓慢.虽然公司从零起步开发了电镀液 和清洗液产品,但是在光刻胶产品开发上的积累比较少,时 间上也不允许公司从零起点开发,必须走引进、消化、吸收 的道路.公司目前已经引进了曾经任职日本知名光刻胶公司 的专业从事光刻胶开发的高端技术人才,组建完成新的研发 团队.公司目前已经购置了一台 ASML1400 型二手光刻机, 用于光刻胶的研发, 这台光刻机可以覆盖到 55nm 技术节点, 后续也会配置相关研发设备.光刻胶开发所用到原材料如光 敏剂、感光树脂等公司也会同步研发,掌握其核心技术. 8. 公司光刻胶产品的类型,都有哪些合作客户? 从晶圆厂所用的光刻胶来看,一般不论是

193 还是

248 都是 指正胶产品,除非是一些特殊应用.光刻胶的研发和上线测 试非常困难,原因是现有光刻胶可参考性小,产品的上线与 曝光设备的工艺参数设置息息相关,因此需要与客户合作开 发并调整线上工艺参数,这也需要晶圆代工厂的上游客户同 意,因此替换客户现用产品的难度会比较大,但在客户产品 的更新迭代开发过程中有比较大的合作机会,共同实现国产 光刻胶的开发. 9. EUV 的出现是否会导致 193nm 光刻胶毛利下降? 新技术的出现一方面会导致现有技术产品的售价下降,另一 方面是原料材料成本不可控制导致的成本上升,两方面的因 素都会导致毛利率下降. 10. 今年一季度台积电因光刻胶出现比较严重的问题.公司与中 芯国际合作是否会受到影响? 台积电一季度光刻胶问题的主要原因是更换了经认证合格 的供应商材料,主要是工艺窗口微调导致的.中芯国际在验 证材料方面是最为谨慎和苛刻的,这也就是公司在中芯国际 已通过验证的产品销售额提升比较缓慢的原因.另一方面公 司自给集成电路制造企业供货以来没有出现过类似的质量 问题,而且公司作为本土供应商,与客户在技术方面的合作 和联系会更紧密. 11. 新阳硅密晶圆湿制程设备的进展情况 晶圆电镀和清洗工序需要设备、材料和工艺的密切配合,新 阳硅密主要进行晶圆级湿制程电镀和清洗设备的开发.前期 主要是技术积累,2018-2019 年的主要重心会在电镀设备的 开发、验证上.目前电镀设备的核心技术均为新阳硅密自主 开发的,很快将推向市场. 12. 公司划片刀项目情况 公司自