PDF《NRT-4000 型RTP 系统》

自动 L/UL(25 片Cassette) 自动预真空(25 片Cassette) NRT-4000 型RTP 系统 NANO-MASTER 的NRT-4000 型独立式 RTP 快速褪火炉,可支 持硅片、GaN、GaAs 等晶圆的快速煺火,具有精确的温度/时间 控制能力.

该RTP 系统可支持单片自动 Load Lock,或者带

25 片Cassette 的单片工艺,可兼容处理

4 和6 晶圆片.也可以 有一次处理 6-7 片6 晶圆的批处理版本.占地面积仅为

26 x44 ,不锈钢立柜. 工艺过程通过触摸屏 PC 和LabView 软件,可实现全自动的 PC 控制,具有高度的可重复性,且具有友好的用户界面. 系统具有完整的安全联锁,提供四级密码授权访问保护,含: ? 操作者权限:运行程序 ? 工艺师权限:添加/编辑和删除程序 ? 工程师权限:可独立控制子系统,并开发程序 ? 服务权限:NM 工程师故障诊断和排除 用户可选择温度的升降时间,温度和脉冲数,并且这些工艺参 数实时显示在触摸监控屏幕中.全自动工艺控制和完整的安全 联锁功能.对于带 Cassette 的单片工艺,取决于工艺参数情况, 最高每小时可以处理

6 片,或者一天

48 片(以8小时计) . 系统支持不限数量的工艺菜单,每套工艺菜单可根据客户需要 支持

1 到100 个工艺工序(步骤) . 该RTP 系统可选择不同的最高温度(最高可可加热至 1100℃或者1400℃) , 温度脉冲可高达 200C/s, SiC 涂覆的石墨烯样品台, 带石英支架,三顶针升降样品台(Auto L/UL).提供高均匀性的 温度控制,整个晶圆全局的温度均匀性优于+/-1%,控温精度优 于+/-2℃. 系统配套 1100℃的热电偶和高温计用于温度监测, 也 可以根据用户的应用需要达到 1400℃的温度. 标准样品台兼容

6 和4 片,可根据需要定制批处理系统,实 现一次多达 6-7 片的

6 晶圆的批处理. 系统配套独一无二设计的

8 个红外灯,带金反射镜,提供出色 的整片温度均匀性. 配套 36KW 功率的 SCR(半导体控制整流器) 控制的 IGBT(绝缘栅双极晶体管)开关固态电源. 配套 200sccm 量程的 N2 MFC,用于精确控制 N2 气体的流量. 另外 N2 也用于 Load Lock 中冷却样片,确保样片的完全冷却可 以放在进样室中进行,提高工艺腔体的处理效率.此外,用户 可以选择配置不同的气体,用于满足不同的工艺应用的目的. 自动进样 ISP-500 型干泵

12 x12 x

8 SS 方形不锈钢,气动升降顶盖.一键实现上盖 的开启和闭合功能,便于手动放/取样片,以及腔体的清洁和维 护.工艺腔体的腔壁采用冷却水冷却,确保不受高温伤害.和 进样室共用干泵确保系统的低真空,防止氧化.工艺腔体的极 限真空可达 50mTorr.也可以根据用户的应用需要,配套涡轮分 子泵达到超高真空的应用,这样极限真空可以达到 5x10-7Torr. 系统为完全的安全联锁,可以实现一键式抽真空或卸真空,安 全可靠. 系统配套 Inficon 冷阴极皮拉尼真空计,可实现工艺腔室和预真 空腔室的真空读数显示. 系统支持单片或

25 片Cassette 的Auto L/UL 的升级,可实现自 动进样、对准、出样,在不间断工艺真空情况下连续处理样片. Load Lock 腔体带独立真空系统和真空计, 通过 PC 全自动监控. 预真空腔室配套独立的真空系统、真空计、步进电机驱动的机 械臂、计算机全自动控制,带末梢执行器,可快速自动对准.5 分钟之内即可把样片(或片托)送到工艺腔体并对准. 厂务条件: 输入电源:三相五线制,380V,30A/Phase,50/60Hz 冷却水:50PSI 压力,流量 2GPM CDA:90PSI 压力,用于气动单元驱动 N2:另外需要提供氮气,用于腔体卸压以及分子泵轴承(若选配 了涡轮分子泵) 应用: ? 扩散 ? 接触式煺火 ? 复合半导体煺火 ? 氧化、碳化、晶化,以及致密化 设备特点: ? 无气相颗粒、腔体经电抛光处理并经过泄露检测.兼容 百级超净间 ?