PDF《NRT-4000 型RTP 系统》

12 x12 x

8 SS 方形不锈钢,气动升降顶盖 ? 水冷腔壁,对人无潜在烫伤风险 ? 最高温度可达 1100℃ ? 最高脉冲温度可达 200℃/Sec ? 涂覆有碳化硅的石墨烯基座, 带石英台阶可以处理

4 英Inficon 全局真空计 寸和

6 英寸晶圆片.包含自动三顶针升降装置. ? 涂覆碳化硅的石墨烯减少排气并提高了机械耐耐力, 使 得该基座在高温时具有防氧化性能 ? 36KW 的SCR 控制的 IGBT 开关固态电源 ? 工艺腔室和预真空腔室共用 ISP-500 干泵, 极限真空可 达50mTorr,真空系统无油污染和烃污染 ? 一键抽真空/卸压, 电磁阀和气动阀分别用于慢速/快速 双段卸压,节流阀用于腔体内的压力控制 ? Nano-Master 提供独一无二的

8 个红外灯配置,带金反 射镜,高均匀性的红外灯排列,带精确的控制和监测. 这些设计可给整个晶圆表面提供出色的温度均 ? 整个表面不均匀性优于±1%, 闭环温度控制的均匀性优 于±2℃ ? 200sccm 的N2 质量流量计,计算机自动控制 ?

25 片Cassette-to-Cassette 从预真空室自动上下片, 完全冷却可在预真空室中通过氮气吹扫来完成 ? 基于 LabView 软件的 PC 计算机控制,高度的可重复性 ? 触摸屏监控屏幕, 主要工艺参数实时显示在监控屏幕上 ? 四级密码授权访问保护 ? EMO 和完全的安全联锁功能 ? 紧凑型设计,占地面积仅

26 *44 ,不锈钢柜体 ? 模块化设计,设备左侧用于真空系统,右侧用于带半透 明亚克力门的仪表放置,一键式易拆装的侧板 系统可选: ? 提供更大腔体的配置,支持更大尺寸的基片处理 ? 单晶圆工艺的 Auto Load Lock ? 单晶圆工艺带

25 片Cassette 的自动上下片 ? 批处理工艺,一次可支持 6-7 片6 晶圆片 ? 最高加热温度升级到 1400℃ ? 双光学高温计配置,高高温计控制 400℃到1400℃,低 高温计控制 150℃到1100℃ ? 260L/Sec 的Pfeiffer Hipace

300 涡轮分子泵,在干净系 统中可达到 5*10-7Torr 的极限真空.通过计算机自动 控制分子泵速度实现腔体压力的全自动控制 ? 额外增加 MFC,用于工艺气体,比如氧气、氢气等, 实现不同的工艺应用 单片薄膜工艺专家 NANO-MASTER CHINA | 那诺-马斯特中国

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电话:021-31663529 ........