PDF《华夏之鹰 雄视长空》

56 纳米光刻图作 出了重要贡献;

率先研究极紫外曝光系统热畸变对 EUVL 系统成像特性影响的研究成果, 获得国际上 第一个将步进光刻机产业化的 Mr.Griff 在SEMI Newsletter 上的肯定与评价;

为尼康产业化 EUVL 提供设计、 加工与装调依据;

在尼康为电子束曝光 机设计的电子光学系统,突破了原 IBM 设计的分 辨极限并获得专利保护…… 积跬步, 才得以至千里.慢慢累积中, 李艳秋 逐渐丰满了羽翼.回国前, 她已经成为日本尼康从 事下一代光刻技术 (NGL) 研发的高级工程师.但 机缘巧合, 一声召唤, 使她不顾一切放下在日本千 辛万苦得到的功名, 回到了祖国的怀抱.而她的回 归, 无疑为我国正要开启的光刻机研究注入新的力 量. 入科院, 回国开启新篇章

2002 年3月, 作为引进国外杰出人才 ( 百人 计划 ) 入选者, 李艳秋正式进入中国科学院电工研 究所工作, 从........