PDF《第三章 填充式 Skutterudite 纳米晶化合物的制备》

32 个小时后的光散射分布 结果.可以看出平均颗粒尺寸为 100nm 左右.图3.6 所示为不同球磨时间 后的粉末 X 射线衍射图谱,可以看出随着球磨时间的增加,填充式方钴 矿化合物的衍射峰的强度下降,衍射峰逐渐宽化,这是由于颗粒细化所引 起的.根据谢乐公式[76-79] : βhkl=kλ/Dcosθ (3.1) 其中,βhkl:晶粒细化引起的峰形宽;

D:垂直于(hkl)面的颗粒尺 寸,在靶材均为 Cu(40kv,50mA)时,kλ为常数.因此,颗粒细化, D 值减小.所以衍射........